關于深能級瞬態(tài)譜儀，有什么是我們不知道的
更新時間：2022-09-06 點擊次數(shù)：813
深能級瞬態(tài)譜是半導體領域研究和檢測半導體雜質、缺陷深能級、界面態(tài)等的重要技術手段。
深能級瞬態(tài)譜儀可以給出與陷阱有關的密度，熱交叉選擇，能級,空間分布等。通過監(jiān)測半導體結在不同溫度下的脈沖產生的電容、電流或電荷瞬變，可產生每個深度級別的光譜，每個深能級都有一個峰值。
根據(jù)半導體P-N結、金－半接觸結構肖特基結的瞬態(tài)電容（△C～t）技術和深能級瞬態(tài)譜（DLTS）的發(fā)射率窗技術測量出的深能級瞬態(tài)譜，是一種檢測靈敏度的實驗方法。能檢測半導體中微量雜質、缺陷的深能級及界面態(tài)。
通過對樣品的溫度掃描，可以給出表征半導體禁帶范圍內的雜質、缺陷深能級及界面態(tài)隨溫度（即能量）分布的DLTS譜。同時DLTS測試軟件集成多種全自動的測量模式及全面的數(shù)據(jù)分析，可以確定雜質的類型、含量以及隨深度的分布。
深能級瞬態(tài)譜儀測試須知：
1、樣品大小：<20mm*20mm；電極直徑：>600微米；電極距離：>1mm或者在兩面。
2、樣品結構
?。?）肖特基結構；
（2）P/N結結構（p/n+或者n/p+）；
?。?）MIS（MOS）結構。
測試溫度78K~700K，一定要提供樣品結構示意圖。
3、測試需要提供參數(shù)
?。?）樣品標注正負極；
?。?）電流，電壓值；
?。?）結的面積。對于肖特基，即肖特基金屬的面積；對于PN結，即PN結的面積，對于MIS（MOS），即柵介質上金屬的面積；由于測試探針針尖面積約500平方微米，故要求結的面積要大于針尖面積。
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