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反應(yīng)離子刻蝕設(shè)備（美國產(chǎn)，高性價比） -聚合物或光阻的等溫各向同性干刻 -硅片或玻璃表面清潔 -硅表面氧化去除

電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng) 熱蒸發(fā)系統(tǒng)、超高真空蒸發(fā)系統(tǒng)、分子束外延MBE、有機分子束沉積OMBD、等離子增強化學(xué)氣相淀積系統(tǒng)PECVD/ICP Etcher、電子回旋共振等離子體增強化學(xué)氣相沉積、離子泵等；

磁控濺射鍍膜系統(tǒng) 專業(yè)的沉積設(shè)備制造商，為各個領(lǐng)域的客戶提供完善的薄膜沉積解決方案：電子束蒸發(fā)系統(tǒng)、熱蒸發(fā)系統(tǒng)、超高真空蒸發(fā)系統(tǒng)、分子束外延MBE、有機分子束沉積OMBD

脈沖激光沉積分子束外延鍍膜系統(tǒng) 優(yōu)異的性能, PVD公司生產(chǎn)的脈沖激光沉積分子束外延系統(tǒng)在國內(nèi)有較多用戶，為眾多老師開啟薄膜外延制備的新篇章。歡迎前來參觀咨詢。

脈沖激光沉積鍍膜系統(tǒng)（PLD） 靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume狀等離子體狀態(tài)，然后被堆積到設(shè)在對面的基板上而成膜。PLD方法可以獲得擁有熱力學(xué)理論上準(zhǔn)穩(wěn)定狀態(tài)的組成和構(gòu)造的人工合成新材料

基質(zhì)輔助脈沖激光沉積鍍膜系統(tǒng)The polymer material will then deposit on the substrate while the solvent will be pumped away （if you choose the correct solvent）.