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脈沖激光外延制備系統(tǒng)簡單實用的PLD系統(tǒng)、磁控濺射系統(tǒng)，性能穩(wěn)定的薄膜沉積系統(tǒng)，可提供PLD、磁控濺射、蒸發(fā)鍍膜等多種薄膜制備方案，是多鐵性薄膜制備的設(shè)備，*的石墨烯生長裝置可以制備高質(zhì)量的石墨烯薄膜。制備系統(tǒng)可制備的薄膜包括氮化物、氧化物、多層膜、石墨烯、碳納米管、2D材料，例如基片加熱裝置、原位監(jiān)測工具。此外還為您提供標(biāo)準(zhǔn)的薄膜以及材料涂層，例如氧化物涂層、導(dǎo)電薄膜、無定型或納米晶、聚合物、納米鉆、鉆涂層以及器件加工。系統(tǒng)利用磁性氧化物中固有的氧空位，不需要離子液體柵極，...

快速化學(xué)淬滅系統(tǒng)低價格、高性能、低樣品消耗，*的數(shù)據(jù)獲取功能，使用簡便，是研究和教學(xué)的理想儀器。因為有的化學(xué)反應(yīng)某一反應(yīng)物是過量的，當(dāng)反應(yīng)進(jìn)行到一定程度，目標(biāo)產(chǎn)物已經(jīng)獲得，該過量反應(yīng)物繼續(xù)存在的話會進(jìn)一步反應(yīng)生成不希望的產(chǎn)物，所以需要淬滅，淬滅的原理是用另一種更易與該過量化合物反應(yīng)的化合物與之反應(yīng)，從而將其從體系中除去。在化學(xué)反應(yīng)中，為了保證反應(yīng)的*，通常某一反應(yīng)物是過量的，此時過量的反應(yīng)物可能會進(jìn)一步反應(yīng)生成不需要的產(chǎn)物或者對檢測造成影響，所以就需要進(jìn)行淬滅，化學(xué)發(fā)光需要用...

快速動力學(xué)停流裝置是好的多路混合停流裝置，淬滅裝置，快速混合溫度突變等裝置系統(tǒng)，產(chǎn)品設(shè)計解決您快速動力學(xué)應(yīng)用中的所有需要。主要特點：1.恒溫水夾套設(shè)計，全電腦控制操作。2.程控驅(qū)動注射器，每路樣品流量可調(diào)，不受濃度與粘度影響。3.高精度，*可調(diào)的混合與稀釋比例。4.極短的死時間，可達(dá)0.25毫秒。5.二路、三路、四路流動注射停流裝置可選擇。可擴展溫度適用范圍：快速動力學(xué)停流裝置可更換SFM附件，應(yīng)用于：化學(xué)淬滅，光學(xué)淬滅以及光學(xué)延時，冷凍淬滅，X-射線散射停流，中子色散停流，...

表面光電壓譜采用白光偏置光路激發(fā)材料；大功率*脈沖激光器，采用電磁屏蔽，無任何外界干擾，測試光路，水平與垂直可任意在線切換，實現(xiàn)固體樣品和液體樣品均可測試分析。光生載流子動力學(xué)主要測試技術(shù)，載流子動力學(xué)測試技術(shù)主要有電學(xué)和譜學(xué)兩類，電學(xué)方法主要是光電化學(xué)，測量方式又分時間域和頻率域，時間域方法主要有瞬態(tài)光電壓（TPV）和瞬態(tài)光電流（TPC），頻率域方法主要有電化學(xué)阻抗譜（EIS）和光強度調(diào)制光電壓譜（IPVS）和光強度調(diào)制光電流譜（IMPS）等。譜學(xué)方法主要是瞬態(tài)吸收光譜和瞬...

多功能磁控濺射儀由真空鍍膜系統(tǒng)和手套箱系統(tǒng)集成而成，可在高真空蒸鍍腔室中完成薄膜蒸鍍，并在手套箱高純惰性氣體氛圍下進(jìn)行樣品的存放、制備以及蒸鍍后樣品的檢測，用于制備各種金屬膜、半導(dǎo)體膜、介質(zhì)膜、磁控膜、光學(xué)膜、超導(dǎo)膜、傳感膜以及各種特殊需求的功能薄膜。磁控濺射儀的工作原理是指電子在電場E的作用下，在飛向基片過程中與氬原子發(fā)生碰撞，使其電離產(chǎn)生出Ar正離子和新的電子，新電子飛向基片，Ar離子在電場作用下加速飛向陰極靶，并以高能量轟擊靶表面，使靶材發(fā)生濺射。在濺射粒子中，中性的靶...

狹縫擠出式涂布機是一款應(yīng)用狹縫擠出式涂布模頭對基材進(jìn)行非接觸式涂布的一款設(shè)備。該設(shè)備通過配置狹縫擠壓涂布模頭、精密計量供料系統(tǒng)與進(jìn)料閥體配合可實現(xiàn)連續(xù)涂布和條紋涂布兩種類型的涂布功能。設(shè)備涂布精度高，一致性和穩(wěn)定性好，廣泛應(yīng)用于鋰離子電池、FCCL、光學(xué)薄膜、膠帶以及各種功能薄膜行業(yè)，狹縫擠出涂布方式，涂布精度高，涂層一致性好；供料閥體配合模頭墊片，可實現(xiàn)連續(xù)、間歇、條紋、網(wǎng)格等形狀的涂布；模頭根據(jù)客戶材料特性設(shè)計，可實現(xiàn)超薄亞微米級涂布；計量泵供料，漿料封閉運行，可自由設(shè)定...